SU-8曝光之前和之后的时间
一旦SU-8树脂第一次烘烤（软烘烤）完成后，SU-8光刻胶可以长时间（至少一个月）的保存在盒子里和黑暗条件下，并且可以始终曝光，烘烤和显影。所以，曝光前的时间不是一个关键的参数。
相反，曝光之后，在进行第二次SU-8烘烤（the Post Exposure Bake，曝光后烘烤）之前，必须检查时间。事实上，在SU-8曝光期间，光引发剂被激活但是需要额外的能量输入才能继续交联反应。
SU-8紫外曝光之前的掩膜对齐
一些工艺在掩膜和晶圆之间需要有对齐功能，但是，实际上，只有很少的UV灯可以提供这个功能，如果你必须使用它，请确保您的设备能够进行这样的操作。为了对齐，您需要一些对齐线来确认晶圆的位置以及何时对齐。
曝光波长
曝光的波长是非常重要的，因为它需要匹配于每种光刻胶。为了曝光SU-8光刻胶，必须使用波长为365nm的紫外光。曝光波长的变化可以改变光刻胶层发生交联所需要的能量，有时候，也可以通过调整曝光时间来改变光刻胶层交联反应所需要的能量。
曝光时间
最重要的参数之一显然是曝光时间。SU-8的曝光时间是光刻胶被UV照亮的时间。曝光时间也与UV线的功率有关，并且它们一起确定了照射到光刻胶的能量。曝光时间太短或太长将会导致光刻胶曝光不足或曝光过度，从而导致分辨率下降。更确切的说，胶层壁的设计宽度和外观可以通过改变曝光时间来显著的进行调节。如果曝光时间太短，那么光刻胶可能不会在整个深度上发生交联反应，因此，光刻胶层在显影的步骤中将会发生剥离。如果曝光时间太长，通道的宽度将会增加。
如何检查您的SU-8光刻是否成功？
PEB期间，SU-8图案的出现
PEB过程中，SU-8图案在胶层的表面上将会更加清晰可见。
显影时间和没有SU-8白色标志
从PEB的最后，未曝光的树脂被显影，然后用异丙醇冲洗晶圆。在干燥的过程中，白色标志的出现表明了SU-8未完全显影，因此，晶圆需要更长时间的显影。如果显影时间看起来真的比工艺表中标明的时间还要长或者更短，那么这意味着在SU-8旋涂或曝光的过程中，出现了一些问题，此时，可能需要检查SU-8旋涂或者曝光的工艺过程。
控制SU-8图案的形状和尺寸
显影后，在显微镜下观察您可以：
知道SU-8光刻胶是否显影良好
对图案形状给出第一个指示
知道图案的宽度
测量SU-8图案的厚度
为了检查旋涂的合格性，最后一个测试时测量胶层的厚度。有几种方法是可以被采用的。通常，厚度是通过光学或者机械轮廓仪来测量的。
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